近期马斯克在公开访谈中给出了自己的国自判断 ，NVIDIA CEO黄仁勋也曾回应过主持人提出的研光相关问题 ，给出了一个粗略的刻机预判 ，会比绝大多数海外行业从业者预估得更快 ，啥时斯克马斯克也提到，候到黄仁目前中国本土的勋马AI大模型技术，
就在之前接受央视财经专访的过程中 ，
两位全球科技行业头部企业的欧美掌舵人先后给出的相似判断 ，
怕中从光刻设备到成熟制程芯片制造的国自各项技术突破 ，也侧面印证了国内半导体全链条自主研发的研光推进速度远超外界此前的预期，从整体表现来看完成度非常出色 ，刻机自己认为中国解决算力供给问题的啥时斯克速度 ，中国到2030年左右就能拿出完全自研的先进光刻系统 。大概两到三年内 ，中国就能依托自主可控的光刻技术与全链条芯片制造能力 ，正在逐步形成合力 ，大概两到三年时间内 ，这些国产半导体制造设备进入本土晶圆厂完成规模化落地 ，补齐当前阶段的算力供给缺口 。一旦相关核心技术完成突破走向成熟 ，中国本土企业就会爆发出极强的大规模量产能力，当时他被问到中国什么时候能完全自主研发出先进光刻机 ，他进一步解释 ，
黄仁勋还补充提到 ，中国就能依靠自主突破的光刻技术与成熟芯片制造体系 ，黄仁勋给出的判断是 ，只是时间早晚的问题 。
早前举办的All-In科技峰会上 ，靠单位算力输出的实际性能，几乎站在了全球顶尖梯队 。