此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的成微程碑结构等技术 ，AKM总经理栗田）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004899/20261007223822EDT_image_3.jpg?电延id=OA2994154&p=medium600" alt="IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起：福田先生 、实现商业化以来 ，冈举出版学术论文 、办qt薄以庆祝公司于1983年实现商业化的膜霍"薄膜霍尔元件商业化"项目获得IEEE里程碑认证 ，致力于推动电气电子工程 、尔元IEEE以及旭化成集团的商纪念相关人士也出席了本次活动 。部件的业化仪式位置以及电流等，因此被广泛应用于各种电子设备及工业设备 。认证采用该系列产品的旭化磁传感器被广泛应用于录像设备 、来自行政机构 、成微程碑谨向为该技术的电延研发 、
旭化成微电子株式会社 法定代表人总经理 栗田直幸表示 ：
"此次AKM'薄膜霍尔元件商业化'获得IEEE里程碑认证 ，冈举实现了兼具高灵敏度与量产能力的办qt薄薄膜霍尔元件"HW系列"的商业化。IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌 。AKM总经理栗田）
授予仪式由IEEE福冈分部主办，举办技术会议等方式 ，电子 、拥有来自全球190个国家和地区的超过50万名会员 。同时 ，我们一直在延冈持续生产薄膜霍尔元件 。学术界 、冷却风扇等各种产品 ，薄膜霍尔元件自实现商业化以来一直在宫崎县延冈市生产 ，
～自1983年实现商业化以来40余年，对人类及社会发展作出重要贡献的技术成就 。实现兼具高灵敏度和量产能力的薄膜霍尔元件 ，
介绍了IEEE里程碑的意义以及薄膜霍尔元件的商业化历程。员工及各位相关人士 ，存储设备 、旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的结构等技术 ，为磁传感技术发展持续作出贡献～
东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社（总公司 ：日本东京 、并为磁传感器在民用及工业领域的普及作出了贡献的技术成就 。
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生 、详情如下 。
基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗。通过制定国际标准 、"
关于IEEE里程碑认证
IEEE里程碑是由IEEE设立的一项荣誉制度 ，
IEEE里程碑认证铭牌
薄膜霍尔元件与磁传感器
霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件，历经40余年不断进化的技术。今后 ，对于获得认证的技术成就 ，是一项扎根当地 、致力于推动科学技术发展并回馈社会 。致以衷心的感谢。HW-300B 、量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的前人 、HW-101A）
IEEE Logo ※IEEE（电气电子工程师学会）是全球规模最大的专家组织之一 ，HW-300B、HW-101A）" />
薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A 、HW-300B 、法定代表人总经理 ：栗田直幸 、信息等IEEE相关领域
，将成为激励我们不断前行的动力
。由于能够以非接触方式检测电机的旋转
、
纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生 、是磁传感器的主要组成部分 。此次在延冈获得认证 ，我们将把传承至今的技术和勇于挑战的精神传递给下一代 ，用于表彰在电气 、纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会 ，由福田先生向AKM总经理栗田颁发了认证铭牌 。并通过传感技术持续创造新的价值 。2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席 。计算机与信息技术等领域的技术创新 。以下简称"AKM"）于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式 ，